
MKS,P99A-28229,压力控制器
- 品牌: MKS
序号: 10XX09 | 数量: 1 | 设备细节: 压力控制器 | 设备: 压力控制器 | 描述: 气体 N2,量程 1000SCCM,1000 托
水原市, 韩国
2003 NIKON,OPTIPHOT-300D,检测显微镜
- 品牌: Nikon
- 型号: Optiphot 300
序号: 625331 | 数量: 1 | 设备细节: 检查显微镜 | 设备: 检查显微镜 | 描述: 14x10 平台,晶片 12",100-120V,3A,50/60Hz
水原市, 韩国
2012 KOH YOUNG,KY-7100,三维自动光学检测机
- 品牌: Koh Young
- 型号: KY7100
序号: AOI-S001 | 数量: 1 | 设备细节: 三维自动光学检测机 | 设备: 三维自动光学检测机 | 描述: 208 伏交流,单相,50/60 赫兹
水原市, 韩国
2010 AIT,AVIS-5000N,LED 晶圆检测系统
- 品牌: AIT
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: LED 晶圆检测系统 | 设备: LED 晶圆检测系统 | 描述: 晶圆 2~6"
水原市, 韩国
1994 KLA TENCOR SFS 6200
- 品牌: KLA-Tencor
- 型号: Surfscan 6200
晶片尺寸: 8" | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 优秀 | - 晶片尺寸: 4 - 8英寸。 | - 软件版本: 2.1
天安市, 韩国
NIKON 尼康 Eclipse L200 + NWL641
- 品牌: Nikon
- 型号: NWL641
晶片尺寸: 6" | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 优秀 | - 晶片尺寸: 4~6" | - 目标: 5倍,10倍,20倍,50倍,100倍 | - 检查模式: 微观和倾斜宏观检查
天安市, 韩国
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上海市, 中国
京畿道, 韩国
2002 NANOMETRICS Nanospec 9300
- 品牌: Nanometrics
- 型号: Nanospec 9300
晶片尺寸: 12" | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 业务 | 头部类型: 紫外线DIO | 录像机: RS170(B/W)
天安市, 韩国
2011 KLA TENCOR Candela 8600
- 品牌: KLA-Tencor
- 型号: Candela 8600
晶片尺寸: 6" | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 优秀 | - 激光器: 斜视(50mW, 405nm), 正常(85mW, 660nm) | - 光斑大小: 5㎛ x 4㎛. | - 粒子检测: 小于0.08㎛的硅衬底。 | - 划伤: 0.1㎛宽,1~2纳米深。 | - 坑坑洼洼: 直径20㎛,50Å;;深。 | - 污渍: 直径20㎛,10Å;;厚。 | - 基层厚度: 350㎛ ~ 1,300㎛. | -...
天安市, 韩国
2012 KLA TENCOR Candeal 8620
- 品牌: KLA-Tencor
- 型号: Candela 8620
晶片尺寸: 8" | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 优秀 | - 激光器: 斜视(50mW, 405nm), 正常(85mW, 660nm) | - 光斑大小: 5㎛ x 4㎛. | - 粒子检测: 小于0.08㎛的硅衬底。 | - 划伤: 0.1㎛宽,1~2纳米深。 | - 坑坑洼洼: 直径20㎛,50Å;深。 | - 污渍: 直径20㎛,10Å;厚。 | - 基层厚度: 350㎛ ~ 1,300㎛. | - 输...
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