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二手一般实验室设备在京畿道, 韩国

2006 Obducat，NIL-60-SS，打印机
- 品牌: Obducat
序号: 60-02-013 | 数量: 1 | 设备细节: 打印机
水原市, 韩国
2013 ULVAC，ENTRON-W300，溅射
- 品牌: Ulvac
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 溅射 | 设备: 溅射 | 描述: 晶片 300 毫米
水原市, 韩国
2008 JESAGI，JSPCS-750，等离子清洗机
- 品牌: JESAGI (
序号: Y0809-26-HSE-01 | 数量: 1 | 设备细节: 等离子体清洗机 | 设备: 等离子体清洗机 | 描述: 尺寸 600x625x500mm，220V，50/60Hz，5kVA
水原市, 韩国
生产线系统，LSD-60UV，紫外线固化
- 品牌: Line System
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 紫外线固化 | 设备: 紫外线固化
水原市, 韩国
MIDAS SYSTEM，SPIN-5000A，旋转显影机
- 品牌: MIDAS SYSTEM
序号: MS0303-SP83-54 | 数量: 1 | 设备细节: 旋转开发人员 | 设备: 旋转开发人员
水原市, 韩国
2010 新技术浪潮，NTW-M1，气体洗涤器
- 品牌: New Tech Wave
序号: 不适用 | 数量: 2 | 设备细节: 气体洗涤器 | 设备: 气体洗涤器
水原市, 韩国
2016 QMC、LCP-200、芯片探测仪
- 品牌: QMC
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: Chip Prober | 设备: Chip Prober
水原市, 韩国
2014 SVS、MSX1000、赛道
- 品牌: SVS
序号: THELEDS06FO3 | 数量: 1 | 设备细节: 追踪 | 设备: 追踪 | 描述: 晶片尺寸 4" 6" 8"
水原市, 韩国
2015 GNBS、PECVD 洗涤器
- 品牌: GNBS
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: PECVD 洗涤器 | 设备: PECVD 洗涤器 | 描述: 不适用
水原市, 韩国
2003 TEL、Clean Track Mark7、PR TRACK
- 品牌: Tokyo Electron - TEL
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 公关轨道 | 设备: 公关轨道 | 描述: 晶片 6~8"
水原市, 韩国
2020岛津，AUX220，分析天平
- 品牌: Shimadzu
- 型号: AUX220
序号: D449517838 | 数量: 2 | 设备细节: 分析天平 | 设备: 分析天平 | 描述: 容量 220 克，可读性 0.1 毫克
水原市, 韩国
PSK、ECOLITE II T、Asher/Descum（单室）
- 品牌: PSK
序号: PEK13007 | 数量: 1 | 设备细节: Asher/Descum （单室） | 设备: Asher/Descum （单室）
水原市, 韩国
2013 牛津，Plasmalab System100，PECVD 和 ICP380
- 品牌: Oxford
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: PECVD 和 ICP380 | 设备: ICP PECVD | 描述: 415 伏，50 赫兹
水原市, 韩国
2009 EVG，EVG810LT，低温等离子活化系统
- 品牌: EVG
Tot: S090007 | 数量: 1 | 设备细节: 低温等离子活化系统 | 设备: 低温等离子活化系统 | 描述: 晶片 50-200、100-300 毫米
水原市, 韩国
puertas
- 品牌: MTOPS
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 热盘 | 设备: 热盘 | 描述: 温度~400℃，转速1600rpm，1530瓦
水原市, 韩国

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