二手一般实验室设备在京畿道, 韩国

2016 QMC、LCP-200、芯片探测仪
- 品牌: QMC
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: Chip Prober | 设备: Chip Prober
水原市, 韩国
2014 SVS、MSX1000、赛道
- 品牌: SVS
序号: THELEDS06FO3 | 数量: 1 | 设备细节: 追踪 | 设备: 追踪 | 描述: 晶片尺寸 4" 6" 8"
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2015 GNBS、PECVD 洗涤器
- 品牌: GNBS
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: PECVD 洗涤器 | 设备: PECVD 洗涤器 | 描述: 不适用
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2003 TEL、Clean Track Mark7、PR TRACK
- 品牌: Tokyo Electron - TEL
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 公关轨道 | 设备: 公关轨道 | 描述: 晶片 6~8"
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2020岛津，AUX220，分析天平
- 品牌: Shimadzu
- 型号: AUX220
序号: D449517838 | 数量: 2 | 设备细节: 分析天平 | 设备: 分析天平 | 描述: 容量 220 克，可读性 0.1 毫克
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PSK、ECOLITE II T、Asher/Descum（单室）
- 品牌: PSK
序号: PEK13007 | 数量: 1 | 设备细节: Asher/Descum （单室） | 设备: Asher/Descum （单室）
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2013 牛津，Plasmalab System100，PECVD 和 ICP380
- 品牌: Oxford
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: PECVD 和 ICP380 | 设备: ICP PECVD | 描述: 415 伏，50 赫兹
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2009 EVG，EVG810LT，低温等离子活化系统
- 品牌: EVG
序号: S090007 | 数量: 1 | 设备细节: 低温等离子活化系统 | 设备: 低温等离子活化系统 | 描述: 晶片 50-200、100-300 毫米
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MTOP、MS-3300、电炉
- 品牌: MTOPS
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 热盘 | 设备: 热盘 | 描述: 温度 ~400℃，转速 1600rpm，功率 1530 瓦
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GLOBAL LAB，GLHP-D3040，电炉
- 品牌: GLOBAL LAB
序号: GL171011007 | 数量: 1 | 设备细节: 电热板 | 设备: 电热板 | 描述: 温度 ~300℃，加热器容量 1.8 千瓦，300x400 毫米
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2013 Seshin Tech, FP 泥浆供应系统
- 品牌: Seshin Tech
序号: STS304 | 数量: 1 | 设备细节: FP 泥浆供应系统 | 设备: FP 泥浆供应系统 | 描述: 不适用
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2020 ASM、PS410、模具开槽机
- 品牌: ASM
序号: PS410-344407-0048 | 数量: 1 | 设备细节: 模具探测器 | 设备: 模具探测器 | 描述: 不适用
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2013 Bruker，Contour SP，落地式 3D 光学轮廓仪
- 品牌: Bruker
序号: CSP-13-0101 | 数量: 1 | 设备细节: 落地式 3D 光学轮廓仪 | 设备: 落地式 3D 光学轮廓仪
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2012 NM2-006-02，FHD 系统
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 全高清系统 | 设备: 全高清系统 | 描述: 不适用
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2011 托普科技有限公司，FABStar，ICP&RIE 蚀刻系统
- 品牌: Top Technology Limited
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: ICP&RIE 蚀刻系统 | 设备: ICP&RIE 蚀刻系统 | 描述: 2000x1550x1920mm
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