2011 AARON 技术中心、AARON 湿站、湿站
- 品牌: AARON Technology Center
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 湿润站 | 设备: 湿润站 | 描述: 不适用
水原市, 韩国2014 SESHIN Tech, G450C, ASC-LEC
- 品牌: SESHIN Tech
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: ASC-LEC(自动表面清洁-低能 CVD) | 描述: 晶片 450 毫米
水原市, 韩国2002 NARA TECH, AMN-100, PECVD
- 品牌: NARA TECH
序号: MA0203-041 | 数量: 1 | 设备细节: PECVD | 设备: PECVD | 描述: 不适用
水原市, 韩国JINWOO ENG,150618KKM,溅射
- 品牌: JINWOO Eng
序号: 119431574 | 数量: 1 | 设备细节: 溅射 | 设备: 溅射 | 描述: 尺寸 4500x6500x2700mm
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2011 Cha Industries, Resolution, 电子束
- 品牌: CHA Industries
序号: 1642-5842 | 数量: 1 | 设备细节: 电子束 | 设备: 电子束 | 描述: 电子束 6-10-15 千瓦
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2016 Wacco,AVIS-B-10,自动视觉检测系统
- 品牌: Wacco
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 自动视觉检测系统 | 设备: 自动视觉检测系统 | 描述: 晶片 300 毫米
水原市, 韩国2003 Entegris Electron,Ultra6222,箱体清洁器
- 品牌: Entegris
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 箱体清洁器 | 设备: 箱体清洁器 | 描述: 晶圆 200 毫米
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2009 JESAGI,JSPES-W21,等离子清洁器
- 品牌: JESAGI
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 等离子体清洗机 | 设备: 等离子体清洗机 | 描述: 1 室式,最大 20[千伏安],220 伏,60 赫兹
水原市, 韩国2008 MIDAS 系统、Spin-5000A、Spin Devloper
- 品牌: MIDAS SYSTEM
序号: MS0803-SP89-54 | 数量: 1 | 设备细节: 自转式发展商 | 设备: 自转式发展商
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