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二手光刻（光刻）在韩国

2014 CANON FPA-5510IX
- 二手
- 品牌: Canon
- 型号: FPA
晶片尺寸: 8", 12" | 过程: 步进
京畿道, 韩国
PHOTO TSK-03C-02-60
- 二手
- 品牌: PHOTO
京畿道, 韩国
PHOTO Thermo Electron
- 二手
- 品牌: Thermo Fisher Scientific
京畿道, 韩国
PHOTO SK-200W-BVPE
- 二手
- 品牌: PHOTO
过程: i-Line照片追踪(3C3D) | 晶片尺寸: 8"
安城市, 韩国
SCREEN RF3S
- 二手
- 品牌: Screen
- 型号: RF3S
晶片尺寸: 12" | 航运: 淘宝网
Anseong-si, 韩国
1997 DNS SK-200W
- 二手
- 品牌: Dainippon Screen
- 型号: SK-200W-AVPF
晶片尺寸: 8" | 过程: 2C / 2D
韩国
2009 DNS SU-3000
- 二手
- 品牌: Dainippon Screen
- 型号: SU3000
晶片尺寸: 12"
韩国
SCREEN DUOI
- 二手
- 品牌: Screen
航运: 淘宝网
韩国
LABOTECH HOT PLATE
- 二手
- 品牌: Labotech
过程: 光子学 | 晶片尺寸: * | 航运: 淘宝网
韩国
2006 DNS SU-3000
- 二手
- 品牌: Dainippon Screen
- 型号: SU3000
晶片尺寸: 12"
韩国
NIKON S620D
- 二手
- 品牌: Nikon
- 型号: S620D
晶片尺寸: 12" | 过程: 准分子激光器 | 航运: 淘宝网
韩国
KARLSUSS RC16
- 二手
- 品牌: KARLSUSS
过程: 纺纱大衣 | 晶片尺寸: * | 航运: 淘宝网
韩国
KARLSUSS RC16
- 二手
- 品牌: KARLSUSS
过程: 纺纱大衣 | 晶片尺寸: * | 航运: 淘宝网
韩国

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概述

半导体光刻是微芯片制造中的关键工艺。它涉及使用光或其他辐射将复杂的电路图案转移到半导体晶圆上。这项技术对于创建现代电子设备中存在的微小复杂结构至关重要，推动了计算、通信和其他各个领域的进步。

常见问题解答

购买半导体光刻设备时应考虑哪些因素？

考虑设备的分辨率能力、吞吐量、与生产线的兼容性以及制造商提供的技术支持水平。

半导体光刻设备通常如何运输？

运输涉及专门的包装以保护敏感组件，通常通过空运或海运进行。重要的是使用有处理高科技设备经验的承运商。

半导体光刻设备需要哪些维护？

定期维护包括清洁光学组件、校准系统和更换消耗部件。请遵循制造商的指南进行详细的维护程序。