半导体制造设备 » Oxford

Building Filters

16

二手 Oxford 半导体制造设备

值得信赖的卖家
牛津仪器 OPT AMU 搭配
- 品牌: Oxford
零件号: MA00A30535 | 辅助零件编号: 547192 | 类型: 比赛 | Rma no: RFG 3805
东基尔布赖德, 英国
Oxford Plasmalab 80 Plus PECVD
- 品牌: Oxford
- 型号: PlasmaLab 80
晶片尺寸: 200mm | 交付时间: 8-10周
龙仁市, 韩国
Oxford Instruments Plasmalab 133
- 品牌: Oxford
- 型号: Plasmalab
数量: 1 | 交付时间: 立即行动
龙仁市, 韩国
Oxford 800
- 品牌: Oxford
数量: 1 | 交付时间: 立即行动
龙仁市, 韩国
Oxford Plasmalab 800+PECVD
- 品牌: Oxford
- 型号: PlasmaLab 800
数量: 1 | 交付时间: 立即行动
龙仁市, 韩国
Oxford Plasmalab 800+PECVD
- 品牌: Oxford
- 型号: PlasmaLab 800
数量: 1 | 交付时间: 立即行动
龙仁市, 韩国
Oxford Plasmalab 133-ICP 380
- 品牌: Oxford
- 型号: Plasmalab
数量: 1 | 交付时间: 立即行动
龙仁市, 韩国
Oxford Plasmalab800+PECVD
- 品牌: Oxford
数量: 2 | 交付时间: 立即行动
龙仁市, 韩国
Oxford Plasmalab800+PECVD
- 品牌: Oxford
数量: 1 | 交付时间: 立即行动
龙仁市, 韩国
Oxford Plasmalab800+PECVD
- 品牌: Oxford
数量: 1 | 交付时间: 立即行动
龙仁市, 韩国
Oxford Plasmalab800+PECVD
- 品牌: Oxford
数量: 1 | 交付时间: 立即行动
龙仁市, 韩国
1994 OXFORD PLASMALAB 100
- 品牌: Oxford
- 型号: PlasmaLab 100
晶片尺寸: 8" | 航运: 淘宝网
韩国
牛津大学800+rie
- 品牌: OXFORD
晶片尺寸: 5" | 过程: RIE
韩国
2013 牛津大学, Plasmalab100-ICP380, ICP 蚀刻仪
- 品牌: Oxford
序号: 94-515033 | 数量: 1 | 设备细节: ICP蚀刻机 | 设备: ICP蚀刻机 | 描述: 不适用
水原市, 韩国
2013 牛津，Plasmalab ICP380-PLASMALAB100，ICP 刻蚀机 + PECVD
- 品牌: Oxford
序号: 94-515033 | 数量: 1 | 设备细节: ICP蚀刻机+PECVD | 设备: ICP蚀刻机+PECVD | 描述: 不适用
水原市, 韩国

12