新 Nanbei NB450 在 郑州市, 河南省, 中国
新
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规格参数
描述
双工位惰性气体保护室实验室真空手套箱
该系列设备主要实现热蒸发镀膜/磁控溅射功能。适用于单质物质、氧化物、电介质、半导体化合物、高温超导薄膜、金属有机发光薄膜等的实验室和早期工业化中试生产。
镀膜方式:电阻蒸发镀膜+手套箱/磁控溅射镀膜+手套箱/电阻蒸发+磁控溅射+手套箱
薄膜种类及特性:单体、氧化物、电介质、半导体化合物薄膜/金属及非金属薄膜;还可用作各种有机发光薄膜、生产线教学及前制程测试/单体薄膜、半导体薄膜、有机薄膜、氧化物薄膜、反应薄膜、介电薄膜、高温超导薄膜、金属陶瓷薄膜、光学电影等
真空室尺寸:φ450×h400mm
真空室结构形式:立式前门结构,后排气系统,手动推拉式
极限真空:6.6×10-5pa
真空系统组成:分子泵+机械泵
抽气速度:从大气抽气至10-3 PA,小于等于20分钟(分子泵)/50分钟(扩散泵)
漆膜均匀度:≤±5%
电极结构:水冷电极
工件烘烤温度:室温至500℃可调可控
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