新 CAPSTONE CS200-ma 在 钱德勒, 亚利桑那, 美国
新
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规格参数
描述
新型 Capstone® CS200 系列是 Axus Technology 推出的下一代 CMP 处理工具,具有市场上最佳的晶圆抛光性能,适用于 100、150 和 200 毫米晶圆尺寸。 最先进的系统架构包括一个卓越的加载-清空-卸载序列,可实现高吞吐量处理能力并减少系统占用空间。 Capstone® 能更有效地应用和利用化学机械抛光浆料,将浆料消耗量减少 40-50%。 独特的焊盘调节系统还能使焊盘寿命比其他 CMP 工具延长一倍。 Capstone® CS200 系列是未来的晶片加工设备,可显著降低 CoO,大幅降低整体 CMP 工艺成本。
需要碳化硅加工? 最先进的 Capstone® CMP 系统与我们的 Crystal carrier(专为易碎晶片处理和先进的轮廓控制而设计)相结合,可提供具有亚微米 TTV 和亚安氏表面光洁度的优质碳化硅基板。
CS200-ma (多装卸水瓶座清洁器配置):
可作为独立的 CMP 抛光系统使用,也可通过集成的双面后 CMP 清洁器作为全自动干进干出系统使用
真正的桥式工具,可同时运行两种不同尺寸的晶片
标准功能:
多区晶片载体(Avalon、Crystal、Fulcrum)
100 毫米、150 毫米和 200 毫米的能力
完全独立的晶片移动
无限晶圆翻转能力
对称移动模式的线性衬垫调节器
高压 D.I. 水冲洗棒
最少的晶圆处理
智能防滑传感器系统
泥浆流量控制器
板载最先进的高速工业控制网络
连接性
完全集成的后 CMP 清洁器
可选功能
光学和电机电流 EPD 系统
压盘冷却
SMIF 版本
综合计量学
其他配置:
Capstone CS200-ia
Capstone CS200-sa


