新 NCS Plasma 2000 全谱ICP光谱仪 在 北京市, 北京, 中国
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规格参数
- 新旧状况
- 新
- 仪器名称
- Plasma 2000 全谱ICP
- 仪器型号
- Plasma 2000
- 制 造 商
- 钢研纳克
- 原 产 地
- 中国北京
- 钢研纳克icp光谱仪,35年电感耦合等离子体光谱仪方法开发经验,数十项icp检测标准的起草单位,icp光谱仪产品标准gb/t 36244-2018起草单位,专项《icp痕量分析仪器的研制》牵头单位。央企品牌,上市公司,品质之选!欢迎来电洽谈。联系电话
- 400-6218-010
- 1. 光学系统
- 中阶梯二维分光光学系统,焦距400mm
- 子类别
- Icp光谱仪
- 子类别 2
- Metrology equipment
- 产品编号
- 63244047
描述
钢研纳克ICP光谱仪,35年电感耦合等离子体光谱仪方法开发经验,数十项ICP检测标准的起草单位,ICP光谱仪产品标准GB/T 36244-2018起草单位,专项《ICP痕量分析仪器的研制》牵头单位。央企品牌,上市公司,品质之选!欢迎来电洽谈。联系电话:400-6218-010仪器介绍 Plasma2000型电感耦合等离子体发射光谱仪采用中阶梯光栅光学结构和科研级CCD检测器实现全谱采集。仪器稳定性好、检测限低、快速分析、运行成本低。 Plasma2000型电感耦合等离子体发射光谱仪可用于地质、冶金、稀土及磁材料、环境、医药卫生、生物、海洋、石油、化工新型材料、农业、食品商检、水质等各领域及学科的样品分析。可以快速、准确地检测从微量到常量约70种元素。 1、 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,径向观测,具有稳健的检测能力。2、 高效稳定的固态射频发生器,体积小巧,匹配速度快,确保仪器的高精度运行及优异的长期稳定性。3、 高速面阵CCD采集技术,单次曝光获取全部谱线信息,真正实现“全谱直读”。4、 功能强大的软件系统,简化分析方法的开发过程,为用户量身打造简洁、舒适的操作体验。技术参数1. 光学系统:中阶梯二维分光光学系统,焦距400mm2. 谱线范围:165nm~950nm,光学分辨率:0.007nm(200nm处)3. 光栅规格:中阶梯光栅,52.67刻线/毫米,尺寸:100mm x 50mm4. 晶体管固态射频发生器,小巧高效5. 27.12MHz频率提高信噪比,改善了检出限6. 自动匹配调节7. 全组装式炬管,降低了维护成本8. 计算机控制可变速12滚轴四通道蠕动泵,具有快速清洗功能9. 实验数据稳定性良好:重复性 RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);稳定性:RSD ≤1.0%(大于3小时)仪器特点稳健高效的全固态光源 全固态射频发生器,体积小、效率高,全自动负载匹配,速度快、精度高,能适应各种复杂基体样品及挥发性有机溶剂的测试,具有优异的长期稳定性。 垂直炬管的设计,具有更好的样品耐受性,减少了清洁需求,降低了备用炬管的消耗。 简洁的炬管安装定位设计,快速定位,精确的位置重现。 实时监控仪器运行参数,高性能CAN工业现场总线,保障通讯高效可靠。

