新 钜晶 PECVD-1200M 在 上海市, 中国
新
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规格参数
- 新旧状况
- 新
- 炉体结构
- 双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温；炉子底部装有一对滑轨，移动平稳炉子可以手动从一端滑向另一端，实现快速的加热和冷却炉盖可开启，可以实时观察加热的物料
- 电源
- 电压：AC220V 50/60Hz；功率：4KW
- 炉管
- 高纯石英管，高温下化学稳定性强，耐腐蚀，热膨胀系数极小尺寸：Φ60*1250mm
- 法兰及支撑
- SUS304不锈钢快速法兰，通过用高温“O”型圈紧密密封可获得高真空一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷可调节的法兰支撑，平衡炉管的受力支撑包含进气、出气、真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合
- 加热系统
- 加热元件采用优质合金丝0Cr27Al7Mo2，表面负荷高、经久耐用加热区长度：270mm恒温区长度：100mm工作温度：≤1150℃最高温度：1200℃升温速率：10℃/min
- 温控系统
- 温度控制采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能30段升降温程序测温元件：N型热电偶恒温精度：±1℃
- 混气系统
- 四路质量流量计：数字显示、气体流量自动控制内置不锈钢混气箱，每路气体管路均配有逆止阀管路采用不锈钢管，接口为Φ6卡套每路气体进气管路配有不锈钢针阀通过控制面板上的旋钮来调节气体流量流量规格：0~200sccm流量精度：±1.5%
- 高真空真空系统
- 采用双级旋片真空泵+分子泵，极限真空可达4.0*10^-4Pa复合真空计，配置电阻规+电离规抽速：110L/S冷却：风冷电源:AC220V 50/60Hz
- 射频电源系统
- 输出功率:0-300W功率稳定度：±0.1%射频电源频率:13.56MHz 稳定性±0.005%最大反向功率:120W 射频电源电子输出端口:UHF冷却:风冷电源:AC187-253V 50/60Hz
- 可选配件
- 混气系统,中、高真空系统，各种刚玉、石英坩埚，石英管，计算机控制软件，无纸记录仪，氧含量分析仪。
- 发货周期
- 1-5个工作日
- 接受订制
- 可按要求定制
- 销售热线
- 400-021-5550
- 招商专线
- 13818702256
- 总机
- 021-51696069
- 子类别
- 实验室用电炉
- 子类别 2
- Pecvd系统
- 产品编号
- 57693892
描述
PECVD系统
主要用途：
高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备，生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。
PECVD系统系列：
PECVD开启式管式炉系统
PECVD系统
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公众号
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PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子，就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应；借助射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜；具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点；
PECVD小型滑动开启式管式炉系统通过滑动炉体来实现快速的升降温，配置不同的真空系统来达到理想的真空度；同时通过多路高精度质量流量计控制不同气体。是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择。
主要用途：
高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备，生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。
技术参数：