新 钜晶 CVD-1200 在 上海市, 中国
新
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规格参数
- 新旧状况
- 新
- 加热元件
- 0Cr27Al7Mo2
- 工作电源
- AC220V 50/60HZ
- 额定功率
- 4KW
- 炉管尺寸
- Φ60/Φ80/Φ100*1000mm
- 工作温度
- ≤1150℃
- 最高温度
- 1200℃
- 恒温精度
- ±1℃
- 加热区长度
- 440mm或220mm/220mm
- 升温速度
- ≤20℃/min
- 密封方式
- 不锈钢快速法兰挤压密封
- 极限真空
- 4.0*10^-4Pa
- 产品配置
- 双级旋片真空泵+分子泵
- 测量方式
- 复合真空计
- 真空规管
- 电阻规+电离规
- 冷却方式
- 风冷
- 抽速
- 110L/S
- 稳压(真空)范围
- 1～5*10^-3Pa
- 压力(真空)稳定精度）
- ±3%
- 控制范围
- 2.5*10^3～1*10^-4 Pa
- 控制精度
- ± 1%
- 流量规格
- 0－500SCCM /0－1SLM,（可根据客户需要配置）
- 线性
- ±1%F.S
- 准确度
- ±1%F.S
- 重复精度
- ±0.2%F.S.
- 响应时间
- ≤2sec
- 耐压
- 3MPa
- 气路通道
- 3通道（根据客户需求）
- 针阀
- 316不锈钢
- 管道
- Φ6mm不锈钢管
- 接口
- SwagelokΦ6mm
- 发货周期
- 1-5个工作日
- 接受订制
- 可按要求定制
- 销售热线
- 400-021-5550
- 招商专线
- 13818702256
- 总机
- 021-51696069
- 子类别
- 实验室用电炉
- 子类别 2
- Cvd&cvi系统
- 产品编号
- 57693877
描述
CVD-1200系统
关 键 词：高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验、材料制备、纳米线生长、材料烧结
CVD-1200系统由开启式单（双）温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
CVD&CVI系统系列：
高真空CVD系统
1200℃全自动七温区CVD系统
1200℃大管径CVD系统
CVD-1200系统
CVD-1200系统
CVD-1700浮子混气系统
CVI-1200系统
CVI-1700系统
销售咨询：
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公众号
公众号
CVD-1200系统由开启式单（双）温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
主要功能和特点：
1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，最高真空可达0.0001Pa；
2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。
4、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；管路采用世界顶级Swagelok卡套连接，不漏气；
5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠。
主要用途：
高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。
主要技术参数：