半导体制造设备 » 沉积设备（CVD、PVD）

二手 2000 AMAT P5000 CVD 在 韩国

二手

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规格参数

新旧状况
二手
年份
2000
晶片尺寸
8"
过程
Delta TEOS 3ch + Sputter 1Ch
航运
淘宝网
分类
沉积设备（CVD、PVD） 在 韩国
子类别
Cvd
产品编号
53659615

描述

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沉积设备（CVD、PVD） 在 韩国CvdAmat 沉积设备（cvd、pvd）Amat P5000

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品牌
Amat
型号
P5000
位置
🇰🇷 韩国

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