新 IKS 1600 在 东莞市, 广东省, 中国
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规格参数
描述
法克斯VACOS 1600镀膜机射频溅射电镀机
一、1. 核心参数升级 内腔尺寸：1600mm×1200mm（较ZCL系列扩大3倍），支持大型基板（如1.5m×1m光学镜片）批量处理 靶材兼容性：12个磁控靶位（支持DC/Pulsed模式）+4个电子束蒸发源，可同步沉积金属/化合物多层膜 极限真空：≤5×10⁻⁴Pa（优于常规溅射设备1个数量级），减少膜层杂质缺陷
2.工艺突破 复合镀膜技术：磁控溅射（DC/Pulsed）与电弧离子镀（ARC）协同运行，实现TiAlN（硬度2800HV）/SiNx（折射率2.1）梯度膜层 智能控制系统： 实时膜厚监控（QCM精度±0.1nm） 等离子体诊断（OES可检测Ar⁺浓度变化±2%） 3. 典型应用案例 航天部件：涡轮叶片CrAlY涂层（厚度50μm），耐温达1200℃（较传统涂层寿命提升5倍） 光学器件：AR膜（MgF₂/SiO₂ 7层堆叠），可见光波段透过率提升至99.2%（未镀膜玻璃透过率92%）
二、溅射镀膜机技术谱系
1.工业级设备代表 型号 关键指标 行业应用 AMAK Endura 300mm晶圆，±1%均匀性 7nm逻辑芯片制造 LAM 2300 8靶位，沉积速率800nm/min OLED显示面板生产
2.实验型创新设计 射频溅射模式：可沉积绝缘介质（Al₂O₃介电常数8.4） 非平衡磁控靶：离化率提升至80%（传统靶材30%），膜层致密度提高40%
三、镀膜技术明细
1.电子束蒸发技术突破（牛津VS5 Pro升级版） 电子束功率：15kW（原版6kW），蒸发速率提升2.5倍（如金膜沉积速率达120nm/min） 膜厚控制：±1.5nm（10nm膜层），适用于光学薄膜干涉控制
2. 卷绕镀膜解决方案（振华RZW2000） 基材宽度：2100mm（支持宽幅PET/铜箔连续镀膜） 蒸发舟温度：1800℃±5℃（确保高熔点钨蒸发稳定性） 产能：300m²/h（PET基材），适用于太阳能背板膜量产