新 海德堡 DWL200 在 东莞市, 广东省, 中国
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规格参数
描述
二手海德堡Heidelberg激光直写光刻机DWL200
/半导体芯片自动光刻机/高精度无掩膜直写光刻机
销售技术杨经理：18103045976
明细介绍：
激光光刻系统为快速、灵活的高分辨率图形产生器，用于制作光罩和直写。这些系统的写入面积高达200x200mm2与400x400mm2，是MEMS、BioMEMS、Micro Optics、ASICs、Micro Fluidics、Sensors，CGH以及所有其他微结构应用里，需快速构图于光罩和硅片的完美方案。 除了高分辨率的2D图形之外，还提供灰度光刻曝光模式，可在厚光刻胶中创建复杂的3D结构。与其他技术相较，此光刻技术能够在大面积中产出3D微结构。优化评估灰度曝光的特殊软件工具，减少新图像设计的循环时间。为了确保最低的表面粗糙度和形状一致性，该系统支持高达4096灰度级，在业界中具备无与伦比的性能。常见的应用包括部份大型的跨国公司制造用于电信或照明产业的晶圆级光学器件，其他新应用包括显微镜制造以及生物学和生命科学领域的器件制造。
主要功能和选项
：
低至0.5μm的结构
网格最小为5纳米
专业灰度曝光模式
实时自动对焦系统
可交换的写入模式
用于计量和校准的摄像系统
高级气候室
自动衬底加载系统
阶段地图校正
多种数据输入格式
用户编程接口
规格
书写模式
网格[nm]
5
10
12.5
25
最小结构尺寸[微米]
0.5
0.7
0.8
1.3
曝光速度[毫米2/分钟]
30
边缘粗糙度[30,nm)
40
50
60
80
CD均匀度[3o，nm]
60
80
90
120
覆盖精度[30,nm]
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