新 宏诚光学 HC-30 在 东莞市, 广东省, 中国

1、双面研磨抛光机YHM77110高精度立式双面研磨(抛光)机该机床主要用于蓝宝石、陶瓷等超硬材料的精密研磨。产品概述规格参数可加工工件同类机型主要用途：该机床主要用于蓝宝石、陶瓷等超硬材料的精密研磨。技术特点：该机特别适用与CMG研磨工艺；该机为四电机控制，上盘、下盘、太阳轮及内齿圈均由独立减速电机驱动，控制灵活，工艺范围广，可满足不同加工工艺需要；龙门式结构，超大压力承载系统，液压加压，可满足1500Kg的研磨压力；系统采用全闭环控制，多个传感器反馈，实时监控和调节加工各项参数；加工压力自动检测、反馈及补偿，数字化输入压力参数；配置恒温冷却系统，研磨液温度由传感器自动检测反馈，实现自动调节研磨液温度；
2、海德生产高精密平面研磨机,平面抛光机,双面研磨机,双面抛光机,研磨液,抛光液,抛光皮,抛光垫,研磨盘,抛光盘,承接平面研磨抛光,镜面抛光加工
3、超精密双面抛光加工是应用化学机械抛光(CMP)技术，靠工件、磨粒、抛光液及抛光盘的力学作用，在工件的抛光过程中，产生局部的高温和高压，从而使直接的物理化学变化直接发生在工件与磨粒、抛光液及抛光盘之间，导致工件的表面产生物理化学变化的反应物。由于力学作用与化学作用的重迭，使得工件表面的反应物不断被磨去，从而使工件表面平滑化。双面抛光技术是在单面抛光加工技术的基础上发展起来的，由于它在薄片工件的加工过程中能有效地避免应力差与粘结误差引起的变形问题。因此与单面抛光加工相比，双面抛光具有加工效率高，表面变形小，易获得超光滑加工表面的优点。一般的超精密双面抛光系统是由承载工件和下抛光盘的工作台、施加载荷的上抛光盘、带动工件旋转运动的行星轮以及供给抛光液的装置四大构件组成，系统构造如图所示。