
2006 KLA TENCOR OSA6100
- 品牌: KLA-Tencor
晶片尺寸: 2 ~ 6英寸 | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 翻新 | 照明源: 25毫瓦的激光,405纳米的波长 | 操作员界面: 轨迹球和键盘标准 | 基材厚度: 350 μm ~ 1,100 μm | 基板材料: 任何透明或不透明的抛光表面 | 其他缺陷和应用: 颗粒、划痕、污点、凹坑和凸起。 | 敏感性: 自动缺陷分类的最小可检测尺寸 | - 刮痕: 100μm长,0.1μm宽,50Å;;深。 | - 坑:...
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1995 KLA TENCOR P-10
- 品牌: KLA-Tencor
- 型号: P-10
晶片尺寸: 8" | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 业务 | - 测量范围: 13㎛,300㎛. | - 扫描长度: 210mm。 | - 扫描速度: 1㎛ ~ 25毫米/秒。 | - 测针力: 1 ~100毫克。 | - 电动x-y平台(最大样品量: 254x254mm)。 | - 公用事业: 真空。 | - 权力: 115V/50HZ,4A。
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KLA TENCOR P-2
- 品牌: KLA-Tencor
- 型号: P-2
晶片尺寸: 8" | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 翻新 | - 扫描长度: 210mm。 | - 扫描速度: 1㎛ ~ 25毫米/秒。 | - 测针力: 1 ~100毫克。 | - 电动x-y平台(最大样品量: 254x254mm)。 | - 选择: 精密定位器 | - 公用事业: 真空。 | - 权力: 110V/50HZ, 4A。
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1996 NANOMETRICS 2100
- 品牌: Nanometrics
晶片尺寸: 8" | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 翻新 | *.过程: 薄膜厚度测量。 | *.波长: 390~800纳米钨灯12V/50W。
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2000 HITACHI S-4160
- 品牌: Hitachi
- 型号: S-4160
晶片尺寸: 8" | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 业务 | 决心: 2.5纳米,30千伏 | 放大率: 20X - 300KX | 电子枪: 冷场发射源,0.5 - 30 kV | 镜头类型: 电磁 | 物镜孔径: 可从外部选择4个位置 | 污名者: 八极电磁波 | 扫描线圈: 2级电磁式 | 尺寸: 8英寸晶圆可交换 | 泵: 涡轮泵 | 舞台动作: 5轴电机驱动 | 图像显示: 双12 "显示器 | * 选项...
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2006 N&K NK5300
- 品牌: N&K
晶片尺寸: 12" | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 翻新 | Duv - vis - nir: 190纳米至1000纳米 | 反射率,偏振分析单元,光斑大小: 50 um | - 薄膜: 薄膜厚度/n和k | - 幼儿教育: 深度/CD/轮廓
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1998 SOLID STATE MEASRUEMENT INC. SSM150
- 品牌: SOLID STATE MEASRUEMENT INC.
晶片尺寸: 其他 | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 优秀 | *.过程: 展开的电阻探头 | 抵抗力: 1 1至>E10 | 电阻率: 10-⁴Ωcm~4x10⁴ | 掺杂物浓度: >10²¹cm-³至< 10¹cm-³ | - 运营系统: MS DOS 3.3 | - 操作软件: D150版本5.12
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1993 KLA TENCOR FLX2320
- 品牌: KLA-Tencor
- 型号: FLX-2320
晶片尺寸: 6" | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 优秀 | -晶片: 6" | -速率: 5秒,用于150毫米晶圆。 | -范围: 2x10E7 ~ 4x10E7 达因/厘米2 | -均方根噪音: 0.0001 mE-1(半径=10,000米) | -决心: 0.00003mE-1(33公里) | -min scan setp: 0.02mm | -每次扫描的最高分: 1250 | -最小半径: 2.0m(for...
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2009 KLA TENCOR CS10V
- 品牌: KLA-Tencor
- 型号: CS10V
晶片尺寸: 2 ~8英寸 | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 优秀 | 照明源: 25毫瓦的激光,405纳米的波长 | 操作员界面: 轨迹球和键盘标准 | 基材厚度: 350 μm ~ 1,100 μm | 基板材料: 任何透明或不透明的抛光表面 | 其他缺陷和应用: 颗粒、划痕、污点、凹坑和凸起。 | 敏感性: 自动缺陷分类的最小可检测尺寸 | - 刮痕: 100μm长,0.1μm宽,50埃;深。 | - 坑: 直...
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2006 KLA TENCOR CS20
- 品牌: KLA-Tencor
- 型号: CS20
晶片尺寸: 2 ~8英寸 | 销售状况: 沽出 | 工具的状况: 优秀 | 照明源: 8mW激光器,635纳米波长 | 操作员界面: 轨迹球和键盘标准 | 基材厚度: 350 μm ~ 1,100 μm | 基板材料: 任何透明或不透明的抛光表面 | 其他缺陷和应用: 颗粒、划痕、污点、凹坑和凸起。 | 敏感性: 自动缺陷分类的最小可检测尺寸 | - 刮痕: 100μm长,0.1μm宽,50埃;深。 | - 坑: 直径2...
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