半导体制造设备 » 蚀刻设备

搜索 品牌

搜索 国家

Building Filters

16

二手 icp

12

概述

刻蚀系统用于通过化学、等离子体或湿法刻蚀工艺，从基板上去除材料，应用于印刷电路板、半导体、金属及装饰表面处理。设备类型包括台式湿刻机到在线等离子/RIE 系统，具备工艺控制、排气过滤与自动化。采购二手或翻新的刻蚀设备时，应重点关注工艺兼容性、产能、废液处理、安全防护以及备件和消耗品的可得性。

常见问题解答

购买二手刻蚀系统时应检查哪些项目？

确认工艺兼容性（化学刻蚀或等离子体）、腔体和夹具状况、密封件与泵的健康、控制器/软件状态、维护记录、排气与过滤系统，以及备件和耗材的可获得性。询问过去的工艺以评估污染风险。

如何安全运输刻蚀系统？

对化学品进行清洁与中和，排空所有液体，断开气源和电源，并记录危险品历史。选择有实验室/半导体设备运输经验的承运商，牢固装箱固定易损部件，投保并准备危险品申报与许可文件。

刻蚀系统的日常维护包括哪些？

定期清洗腔体、更换滤芯与泵、检查真空密封、进行气路泄漏检测、校准控制器，并妥善中和与处置废液。保持维护记录，按照厂商建议的周期和流程更换耗材以保证工艺稳定性。