Building Filters

Tokyo Electron Ltd. Tactras Vigus
- 品牌: Tokyo Electron - TEL
- 型号: TACTRAS VIGUS
晶片尺寸: 12" | 数量: 1 | 交付时间: 立即行动
龙仁市, 韩国
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晶片尺寸: 12" | 数量: 1 | 交付时间: 立即行动
刻蚀系统用于通过化学、等离子体或湿法刻蚀工艺,从基板上去除材料,应用于印刷电路板、半导体、金属及装饰表面处理。设备类型包括台式湿刻机到在线等离子/RIE 系统,具备工艺控制、排气过滤与自动化。采购二手或翻新的刻蚀设备时,应重点关注工艺兼容性、产能、废液处理、安全防护以及备件和消耗品的可得性。
确认工艺兼容性(化学刻蚀或等离子体)、腔体和夹具状况、密封件与泵的健康、控制器/软件状态、维护记录、排气与过滤系统,以及备件和耗材的可获得性。询问过去的工艺以评估污染风险。
对化学品进行清洁与中和,排空所有液体,断开气源和电源,并记录危险品历史。选择有实验室/半导体设备运输经验的承运商,牢固装箱固定易损部件,投保并准备危险品申报与许可文件。
定期清洗腔体、更换滤芯与泵、检查真空密封、进行气路泄漏检测、校准控制器,并妥善中和与处置废液。保持维护记录,按照厂商建议的周期和流程更换耗材以保证工艺稳定性。