半导体制造设备 » 沉积设备（CVD、PVD）

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二手 沉积设备（Cvd、Pvd）

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    2007 LAM VECTOR_EXPRESS

    • 品牌: Lam Research - Novellus
    • 型号: Vector

    晶片尺寸: 300 | 数量: 1 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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    Applied Materials Raider-S

    • 品牌: Amat
    • 型号: Raider

    晶片尺寸: 6" | 数量: 1 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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    ASM UHV-A600

    • 品牌: ASM
    • 型号: UHV-A600

    晶片尺寸: 200mm | 数量: 3 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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    AMAT P5000(TEOS)

    • 品牌: Amat
    • 型号: P5000

    晶片尺寸: 6 | 数量: 2 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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    Oxford Plasmalab800+PECVD

    • 品牌: Oxford

    数量: 1 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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    Oxford Plasmalab800+PECVD

    • 品牌: Oxford

    数量: 1 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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    2007 ULVAC ENTRON-EX

    • 品牌: Ulvac

    晶片尺寸: 12" | 数量: 1 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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    AIXTRON TS CCSH31 2"

    • 品牌: AIXTRON

    数量: 1 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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    1996 AMAT P5000(TEOS)

    • 品牌: Amat
    • 型号: P5000

    晶片尺寸: 8 | 数量: 1 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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    AMAT ENDURA RE-FLOW CHAMBER

    • 品牌: Amat
    • 型号: Endura

    晶片尺寸: 12" | 数量: 1 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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    ULVAC ENTRON-EX Chamber Only

    • 品牌: Ulvac

    晶片尺寸: 12 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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    NOVELLUS C2 ALTUS STD. TYPE

    • 品牌: Lam Research - Novellus
    • 型号: Altus

    晶片尺寸: 200mm | 数量: 1 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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    2007 ULVAC ENTRON-EX Chamber Only

    • 品牌: Ulvac

    晶片尺寸: 12 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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    2008 LAM VECTOR_EXPRESS

    • 品牌: Lam Research - Novellus
    • 型号: Vector

    晶片尺寸: 12 | 数量: 1 | 交付时间: Bobcat PA185V Compresor de Aire

    龙仁市, 韩国
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    2007 LAM VECTOR_EXPRESS

    • 品牌: Lam Research - Novellus
    • 型号: Vector

    晶片尺寸: 300 | 数量: 1 | 交付时间: 立即行动

    龙仁市, 韩国
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概述

CVD（化学气相沉积）和PVD（物理气相沉积）是用于在各种基材上应用薄膜或涂层的先进涂层技术。CVD涉及在加热的基材表面发生化学反应，而PVD则涉及材料的物理蒸发，然后在基材上凝结。这些工艺广泛应用于电子、航空航天和汽车等行业，以增强材料的硬度、耐磨性和防腐蚀性。

常见问题解答

购买CVD/PVD设备时应考虑什么？

考虑设备的容量、与所需涂层材料的兼容性以及特定应用需求。还应检查设备的状态、使用年限和维护记录。

如何确保CVD/PVD设备安全运输到我的位置？

使用专业的运输服务，特别是那些擅长处理精密和高价值工业设备的公司。确保设备在运输过程中得到妥善包装和固定，以防止损坏。

CVD/PVD设备的维护计划是什么？

定期维护包括清洁腔体、检查和更换过滤器、检查密封件以及校准系统。请按照制造商的指南进行详细的维护间隔，以确保最佳性能。