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龙仁市, 韩国
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1997 NOVELLUS CONCEPT Ⅱ ALTUS standard
- 品牌: Lam Research - Novellus
- 型号: Altus
晶片尺寸: 8" | 数量: 1 | 交付时间: 立即行动
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晶片尺寸: 8" | 数量: 1 | 交付时间: 立即行动
CVD(化学气相沉积)和PVD(物理气相沉积)是用于在各种基材上应用薄膜或涂层的先进涂层技术。CVD涉及在加热的基材表面发生化学反应,而PVD则涉及材料的物理蒸发,然后在基材上凝结。这些工艺广泛应用于电子、航空航天和汽车等行业,以增强材料的硬度、耐磨性和防腐蚀性。
考虑设备的容量、与所需涂层材料的兼容性以及特定应用需求。还应检查设备的状态、使用年限和维护记录。
使用专业的运输服务,特别是那些擅长处理精密和高价值工业设备的公司。确保设备在运输过程中得到妥善包装和固定,以防止损坏。
定期维护包括清洁腔体、检查和更换过滤器、检查密封件以及校准系统。请按照制造商的指南进行详细的维护间隔,以确保最佳性能。