2013 牛津大学, Plasmalab100-ICP380, ICP 蚀刻仪
- 品牌: Oxford
序号: 94-515033 | 数量: 1 | 设备细节: ICP蚀刻机 | 设备: ICP蚀刻机 | 描述: 不适用
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2011 Gigalane、MAXIS 300Lah、ICP Etcher
- 品牌: Gigalane
序号: M1108-022-01 | 数量: 1 | 设备细节: ICP蚀刻机 | 设备: ICP蚀刻机 | 描述: 最大 6 英寸晶片
水原市, 韩国2010 Top ENG、LX-380、ICP Etcher
- 品牌: Top Eng
序号: MC-1005-303 | 数量: 1 | 设备细节: ICP蚀刻机 | 设备: ICP蚀刻机 | 描述: 不适用
水原市, 韩国2013 牛津,Plasmalab ICP380-PLASMALAB100,ICP 刻蚀机 + PECVD
- 品牌: Oxford
序号: 94-515033 | 数量: 1 | 设备细节: ICP蚀刻机+PECVD | 设备: ICP蚀刻机+PECVD | 描述: 不适用
水原市, 韩国2012 等离子热敏仪、VERSALINE、ICP-RIE 刻蚀机
- 品牌: Plasma-Therm
- 型号: VERSALINE
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: ICP-RIE蚀刻机 | 设备: ICP-RIE蚀刻机 | 描述: 晶圆 200 毫米(最大值)
水原市, 韩国无边界系统 Genius1125、XeF2 ETCHER
- 品牌: Boundless system
数量: 1 | 设备细节: XeF2 ETCHER | 设备: XeF2 ETCHER | 描述: 不适用
水原市, 韩国无边界系统、Genius1125、XeF2 ETCHER
- 品牌: Boundless system
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: XeF2 ETCHER | 设备: XeF2 ETCHER | 描述: 不适用
水原市, 韩国Gatan,GATAN 682,PECS Etcher
- 品牌: Gatan
序号: 06062701 | 数量: 1 | 设备细节: PECS Etcher | 设备: PECS Etcher | 描述: 240 伏,50 赫兹
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