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2013 牛津，Plasmalab ICP380-PLASMALAB100，ICP 刻蚀机 + PECVD
- 品牌: Oxford
序号: 94-515033 | 数量: 1 | 设备细节: ICP蚀刻机+PECVD | 设备: ICP蚀刻机+PECVD | 描述: 不适用
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2010 Top ENG、LX-380、ICP Etcher
- 品牌: Top Eng
序号: MC-1005-303 | 数量: 1 | 设备细节: ICP蚀刻机 | 设备: ICP蚀刻机 | 描述: 不适用
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2011 Tainics、TE3100、ICP 蚀刻机
- 品牌: Tainics
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: ICP蚀刻机 | 设备: ICP蚀刻机 | 描述: 普通氮化镓蚀刻、高氮化镓蚀刻、PSS 蚀刻
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2011 Tainics、TE3100、ICP 蚀刻机
- 品牌: Tainics
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: ICP蚀刻机 | 设备: ICP蚀刻机 | 描述: 普通氮化镓蚀刻、高氮化镓蚀刻、PSS 蚀刻
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2003 Perkin Elmer, ELAN DRC II, ICP 质谱仪
- 品牌: Perkin Elmer
- 型号: Elan
序号: Q0800208 | 数量: 1 | 设备细节: ICP 质谱仪 | 设备: ICP 质谱仪
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2011 Gigalane、MAXIS 300Lah、ICP Etcher
- 品牌: Gigalane
序号: M1108-022-01 | 数量: 1 | 设备细节: ICP蚀刻机 | 设备: ICP蚀刻机 | 描述: 最大 6 英寸晶片
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2015 Gigalane、MAXIS-300Lah、ICP 蚀刻仪
- 品牌: Gigalane
序号: M1108-022-01 | 数量: 1 | 设备细节: ICP蚀刻机 | 设备: ICP蚀刻机 | 描述: 最大 6 英寸晶片
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2013 牛津，Plasmalab System100，PECVD 和 ICP380
- 品牌: Oxford
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: PECVD 和 ICP380 | 设备: ICP PECVD | 描述: 415 伏，50 赫兹
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2019 顶级科技有限公司，FABStar，ICP&RIE 蚀刻系统
- 品牌: Top Technology Limited
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: ICP&RIE 蚀刻系统 | 设备: ICP&RIE 蚀刻系统 | 描述: 不适用
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2018 托普科技有限公司，FABStar，ICP&RIE 蚀刻系统
- 品牌: Top Technology Limited
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: ICP&RIE 蚀刻系统 | 设备: ICP&RIE 蚀刻系统 | 描述: 不适用
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2011 托普科技有限公司，FABStar，ICP&RIE 蚀刻系统
- 品牌: Top Technology Limited
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: ICP&RIE 蚀刻系统 | 设备: ICP&RIE 蚀刻系统 | 描述: 2000x1550x1920mm
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2012 等离子热敏仪、VERSALINE、ICP-RIE 刻蚀机
- 品牌: Plasma-Therm
- 型号: VERSALINE
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: ICP-RIE蚀刻机 | 设备: ICP-RIE蚀刻机 | 描述: 晶圆 200 毫米（最大值）
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