二手一般实验室设备在京畿道, 韩国

2008 MIDAS 系统、Spin-5000A、Spin Devloper
- 品牌: MIDAS SYSTEM
序号: MS0803-SP89-54 | 数量: 1 | 设备细节: 自转式发展商 | 设备: 自转式发展商
水原市, 韩国
2015 JUNG KWANG ENG，JKHB-2020，热粘合剂
- 品牌: Jung
序号: 150727001 | 数量: 1 | 设备细节: 热粘合剂 | 设备: 热粘合剂 | 描述: 不适用
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2010 GST, ISIS, 洗涤机
- 品牌: Isis
序号: SHW-0054 | 数量: 1 | 设备细节: 洗涤器 | 设备: 洗涤器 | 描述: 热敏型，电压 220VAC 3 相
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2013 QMC，LCP-200，芯片探测仪
- 品牌: QMC
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: Chip Prober | 设备: Chip Prober
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2012 SVS、MSX1000、赛道
- 品牌: SVS
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 追踪 | 设备: 追踪 | 描述: 晶片尺寸 4" 6" 8"
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2003 Suss Microtec，Delta 80T，旋涂机
- 品牌: SÜSS MicroTec
序号: AK-200.173 | 数量: 1 | 设备细节: 旋转涂膜机 | 设备: 旋涂机 | 描述: 基底 10x10mm，晶圆 2~6"
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2014 SOL HITEC，SHA-80SA，手动校准器
- 品牌: SOL HITEC
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 手动对准器 | 设备: 手动对准器 | 描述: 不适用
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BLE Laboratory Equipment GmbH，Delta36TA，晶圆掩膜清洁器
- 品牌: Masque
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 晶片掩膜清洁器 | 设备: 晶片掩膜清洁器 | 描述: 不适用
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2015 PSK、ECOLITE II T、Asher Descum（双腔体）
- 品牌: PSK
序号: PEK25701 | 数量: 1 | 设备细节: Asher Descum（双室） | 设备: 阿什/德斯库姆 | 描述: 双室
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MTOP、MS-3300、电炉
- 品牌: MTOPS
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 热盘 | 设备: 热盘 | 描述: 温度 ~400℃，转速 1600rpm，功率 1530 瓦
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GLOBAL LAB，GLHP-D3040，电炉
- 品牌: GLOBAL LAB
序号: GL171011007 | 数量: 1 | 设备细节: 电热板 | 设备: 电热板 | 描述: 温度 ~300℃，加热器容量 1.8 千瓦，300x400 毫米
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Verteq，Superclean1600，旋转冲洗干燥机
- 品牌: Verteq
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 旋转式漂洗烘干机 | 设备: 旋转式漂洗烘干机 | 描述: 单位尺寸 26.25 "x19.75 "x17.25"
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2006 Wacco，SHC300-III，装运编译器
- 品牌: Wacco
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 航运编译器 | 设备: 航运编译器 | 描述: 晶片 300 毫米
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2016 拓普科技有限公司，FABStar-LP-6，PECVD 系统
- 品牌: Top Technology Limited
序号: FABStar-LP-6-K-2016-1 | 数量: 1 | 设备细节: PECVD 系统 | 设备: PECVD 系统 | 描述: 不适用
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大东高科技，直流磁控溅射系统
- 品牌: Daedong
序号: 不适用 | 数量: 1 | 设备细节: 直流磁控溅射系统 | 设备: 直流磁控溅射系统 | 描述: 极限压力低于 2x10
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