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二手沉积设备（Cvd、Pvd）在美国

2004年Novellus C3 Speed XT
- 品牌: Lam Research - Novellus
晶片尺寸: 12" | 过程: CVD | 分室: 3C/H
格鲁吉亚, 美国
2004年Novellus C3 Speed XT
- 品牌: Lam Research - Novellus
晶片尺寸: 12" | 过程: CVD | 分室: 3C/H
格鲁吉亚, 美国
2005年Novellus C3 Speed XT
- 品牌: Lam Research - Novellus
晶片尺寸: 12" | 过程: CVD | 分室: 3C/H
格鲁吉亚, 美国
2006年Novellus C3 Speed XT
- 品牌: Lam Research - Novellus
晶片尺寸: 12" | 过程: CVD | 分室: 3C/H
格鲁吉亚, 美国
2005年Novellus C3 Speed XT
- 品牌: Lam Research - Novellus
晶片尺寸: 12" | 过程: CVD | 分室: 3C/H
格鲁吉亚, 美国
2004年Novellus C3 Speed XT
- 品牌: Lam Research - Novellus
晶片尺寸: 12" | 过程: CVD | 分室: 3C/H
格鲁吉亚, 美国
AMAT DPS II
- 品牌: Amat
- 型号: Centura
晶片尺寸: 12" | 过程: 氧化物 | 分室: 3C/H
格鲁吉亚, 美国
1996年阿玛特-西图拉
- 品牌: Amat
- 型号: Centura
晶片尺寸: 8" | 分室: 3C/H
马萨诸塞, 美国
1995 AMAT P5000
- 品牌: Amat
- 型号: P5000
晶片尺寸: 6" | 分室: 1+1c/h (1cvd + 1etch)
马萨诸塞, 美国
1999 AMAT P5000
- 品牌: Amat
- 型号: P5000
晶片尺寸: 6" | 分室: 1+1c/h (1cvd + 1etch)
马萨诸塞, 美国
2002年AMAT WSIX
- 品牌: Amat
- 型号: Centura
晶片尺寸: 8" | 分室: 4c/h（微波炉型）
马萨诸塞, 美国
1997 Amat P5000
- 品牌: Amat
- 型号: P5000
晶片尺寸: 8" | 分室: SACVD Delta TEOS 3Ch,SPUTTER 1ch
马萨诸塞, 美国
1995 Amat P5000
- 品牌: Amat
- 型号: P5000
晶片尺寸: 8" | 分室: 2C/H
马萨诸塞, 美国
1996 Amat P5000
- 品牌: Amat
- 型号: P5000
晶片尺寸: 8" | 分室: SACVD Delta TEOS 3ch，SPUTTER 1ch
马萨诸塞, 美国
2000 Amat dps poly
- 品牌: Amat
- 型号: Centura
晶片尺寸: 8" | 分室: 3C/H
马萨诸塞, 美国

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